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  • 如何为CVD装备选型

    将来记:化学气相沉积(CVD)是半导体工业中运用最为常见的用来沉积多种材料的技艺,理论上即:两种或两种以上的常态原材料导入到一个反应室内,下一场他们相互之间发生化学反应,形成一种新的材料,沉积到晶片表面上。于是普通CVD试验设备则由三套及以上的装备组合而成即:气温炉(提供实验温度)+供气系统(提供多种气体混合)+真空系统(提供实验环境)。化学气相沉积(CVD)装备的灵敏度很高,我家可根据自己实验要求选择适宜的产品来组合,或者直接选择套装 (请点击这里)。
    提议:如果您是在分开购买CVD装备时最好跟科晶人员关系是否需要一些必须的配件,以防分体购买CVD中的设备造成配件不全不能立即实验的题材。
    一.气温炉选择(CVD系统中常见是管式炉):气温炉为CVD试验提供材料沉积所要求的温度

    1、如何选择管式炉?(请点击此链接)

    二、供气系统挑选:
  • 供气系统即混气装置,其它可以实现2种或者2种以上的空气或者蒸汽按照一定的比重来混合,下一场通入高温炉中

  • 基金企业依据流量计的不同分为2类

  • 1.空气流量计:
  • 浮子流量计:空气通过普通的浮子流量计粗略的量进气量。如GSL-2F、GSL-3F

  • 质流量计:空气通过D07质流量计精确控制进气量。如GSL-2Z、GSL-3Z、GSL-4Z等

  • 2、气液混合流量计:
  • 用于液体高温气化后导入CVD系统之装备,有建议版和标准控制版本两种可选


  • 三、真空系统挑选:
  • 真空系统为CVD试验提供实验的空间环境,名将管式炉中的空气抽走,到达真空的气氛。我家根据自己实验所需真空度大小及实验所需清洁程度来选择适宜的空间装置。

  • 基金企业依据真空泵的不同分为2类:

  • (1)低真空系统GZK-101。利用4L/S的双级真空泵,外部配电阻规真空计
    (2)高真空系统GZK-103。利用进口分子泵,自带真空计。GZK-103G。利用国产分子泵,自带真空计
    (3)另,若经费有限,我家也得以只购买单独的真空泵、真空计和真空泵连接配件来促成抽真空的步子


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    如何根据应用选择本企业溅射镀膜仪或蒸镀仪

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